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光学薄膜量测设备 High Yield™系列
埃芯自主研发的High Yield™系列产品采用穆勒矩阵和反射式光谱混合技术,可以量测薄膜的厚度、光学常数(折射率n、消光系数k等)、能带宽度、缺陷等膜层参数,具备多层堆叠等复杂结构的量测能力。可在不使用SWE情况下对nm级别的超薄膜进行工艺控制。此系统适用于材料能隙监控、工艺开发及在线工艺监控、工程分析、工艺设备匹配等复杂应用。
High Yield™ HY-100
光学薄膜量测系统可以对应32nm以下技术节点薄膜量测。
High Yield™ HY-101
光学薄膜量测系统可以对应2Xnm技术节点的逻辑和存储等复杂结构的薄膜量测。
High Yield™ HY-102
光学薄膜量测系统可以对应1Xnm技术节点逻辑和存储等复杂结构的薄膜量测。
High Yield™ HY-110
光学薄膜量测系统具备光栅膜和多层复杂堆叠结构量测能力,可以对应7nm、5nm及以上技术节点的量测需求,以及3D NAND的128-256层堆叠结构。

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